真空鍍膜厚度不均勻問題一直困擾著很多人，引起真空鍍膜厚度不均勻問題的原因有很多，如何能有效控制，咱們就一起來探討一下真空鍍膜厚度不均勻問題；

    無論監(jiān)控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。如果真空鍍膜機這個位置的°膜厚不是均勻的，那么遠離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發(fā)源的不穩(wěn)定或膜材的不同表現而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對真空室的結構和蒸發(fā)源的恰當選擇可以使這些影響*小化。

  在過去幾年中，越來越多的用戶要求鍍膜系統制造廠家提供高性能的小規(guī)格、簡便型光學鍍膜系統，同時，用戶對性能的要求不沒有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水后光譜變化小化等方面。

  現在，系統的平均尺寸規(guī)格已經在降低，而應用小規(guī)格設備進行光學鍍膜的生產也已經轉變成為純技術問題。因此，選用現代化光學鍍膜系統的關鍵取決于對以下因素的認真考慮：對鍍膜產品的預期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術因素。

     現在關于真空鍍膜厚度不均勻問題有大概的了解嗎?關于真空鍍膜機的選擇，您現在有大概的概念了嗎？有任何問題隨時歡迎找無錫光潤真空科技有限公司來探討哦!