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真空鍍膜機(jī)的幾種鍍膜方法

發(fā)布時(shí)間:2022-03-04瀏覽次數(shù):載入中...
真空鍍膜技術(shù),簡(jiǎn)單地來(lái)說(shuō)就是在真空環(huán)境下,利用蒸發(fā)、濺射等方式發(fā)射出膜料粒子,沉積在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上形成鍍膜層。它的主要方法包括以下幾種:


真空蒸鍍
其原理是在真空條件下,用蒸發(fā)器加熱膜料,使其氣化或升華,蒸發(fā)粒子流直接射向基片,并在基片上沉積形成固態(tài)薄膜的技術(shù)。


濺射鍍膜

濺射鍍膜是真空條件下,在陰極接上高壓電,激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極靶材,使其射出膜料粒子,并沉積到基片上形成膜層。




離子鍍膜
離子鍍膜通常指在鍍膜過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生大量離子的鍍膜方法。在膜的形成過(guò)程中,基片始終受到高能粒子的轟擊,膜層強(qiáng)度和結(jié)合力非常強(qiáng)。



真空卷繞鍍膜
真空卷繞鍍膜是一種利用各種鍍膜方法,在成卷的柔性薄膜表面上連續(xù)鍍膜的技術(shù),以實(shí)現(xiàn)柔性基體的一些特殊功能性、裝飾性屬性。
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